После внедрения амортизирующих прокладок для индустрии CCL (печатных плат) мы разработали амортизирующие прокладки для индустрии печатных плат и плат-носителей микросхем. Этот продукт состоит из высокоэластичного волокна и полимера, а его амортизирующие свойства также улучшены по сравнению с амортизирующими прокладками первого поколения.
В целях адаптации к новым материалам 5G и высоким стандартам ламинирования в электронной промышленности, а также в соответствии с тенденциями защиты окружающей среды, наши специалисты по исследованиям и разработкам после многолетних исследований и инноваций создали многоразовый высокотемпературный буферный материал, выдерживающий температуру до 260 °C, — мат Военно-морской.
Специальная подушка для прессования — это революционный материал, разработанный для удовлетворения требований современных промышленных и производственных процессов. По сравнению с традиционной крафт-бумагой, эта инновационная подушка предлагает широкий спектр преимуществ, что делает ее предпочтительным выбором для различных задач прессования.
Этот продукт изготовлен из сверхпрочного стекловолокна и высокомолекулярного полимера. По сравнению с крафт-бумагой, он проще в изготовлении, более устойчив к высоким температурам, более стабилен, более экологичен, более энергосберегающий и может быть многократно переработан.
После выпуска второго поколения амортизирующих прокладок наша компания представила третье поколение амортизирующих прокладок для производства мягких и комбинированных мягких и жестких плит, изготовленных из высокоэластичного волокна и высокоэластичного полимера. По сравнению с продукцией первого и второго поколений, амортизационные свойства этих прокладок значительно улучшены.
После внедрения второго поколения амортизирующих прокладок наша компания представила амортизирующие прокладки для производства мягких и комбинированных плит, изготовленные из высокоэластичного волокна и высокоэластичного полимера. По сравнению с продукцией первого и второго поколений, амортизационные свойства этих прокладок значительно улучшены.
